成膜装置及び電子部品の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：岡本啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006067931
Publication number (International publication number)：2007246937
Application date： Mar. 13, 2006
Publication date： Sep. 27, 2007
Summary：

【課題】基板に対する密着強度が高く、組織が緻密で均一な厚膜の形成が可能なエアロゾルデポジッション成膜装置及びその成膜装置を使用した電子部品の製造方法を提供する。【解決手段】エアロゾル発生部31において、原料粉末とキャリアガスとを混合してエアロゾルを生成する。そして、このエアロゾルを噴射ノズル22のエアロゾル噴射口から基板24に向けて噴射するとともに、噴射ノズル22の整流ガス噴射口からエアロゾルの周囲に整流ガスを噴射する。これにより、エアロゾルの広がりが抑制され、基板24に原料粉末(微粒子)が垂直に衝突して、密着強度が高く、組織が緻密で均一な厚膜の形成が可能となる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

原料粉末とキャリアガスとを混合してエアロゾルを発生するエアロゾル発生部と、成膜室と、前記成膜室内に配置された基板搭載部と、整流ガスを供給する整流ガス供給部と、前記エアロゾル生成部で生成されたエアロゾルを前記基板搭載部に搭載された基板に向けて噴射して膜を形成するエアロゾル噴射部と、前記エアロゾル噴射部の周囲に配置され、前記整流ガス供給部から供給される整流ガスを前記エアロゾル噴射部から噴射されたエアロゾルの周囲に噴射する整流ガス噴射部とを有することを特徴とする成膜装置。

IPC (2)：

C23C 24/04 , B01J 19/00

FI (2)：

C23C24/04 , B01J19/00 K

F-Term (14)：

4G075AA24 , 4G075BD14 , 4G075CA63 , 4G075CA65 , 4G075DA02 , 4G075EC03 , 4G075ED13 , 4G075EE01 , 4K044BA12 , 4K044BB11 , 4K044BC05 , 4K044CA23 , 4K044CA51 , 4K044CA71

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

超微粒子成膜法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-210765 Applicant：工業技術院長
チタン合金製部品及びその表面処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-163807 Applicant：愛三工業株式会社
エアロゾルデポジッション成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-399973 Applicant：富士通株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所

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Cited by examiner (3)

成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-127036 Applicant：富士写真フイルム株式会社
微粒子成膜法及び微粒子成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-060085 Applicant：日立電線株式会社
成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-392328 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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