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J-GLOBAL ID：200903094265682626

回転式薬液処理装置

Inventor： 佐合 宏仁 ,  小針 英也 ,  上田 康爾 ,  宮本 英典 ,  高月 龍三
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社 ,  タツモ株式会社
Agent (2)： 稲元 富保 (外3名) ,  下田 容一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994054135
Publication number (International publication number)：1995256195
Application date： Mar. 24, 1994
Publication date： Oct. 09, 1995
Summary：

【要約】【目的】 回転カップ式処理装置のインナーカップ用蓋体の下面の洗浄を効率よく行う。【構成】 洗浄液ノズル12の外周面と中空孔13であるスピンナー軸8内周面との間に形成される環状の隙間は、隔壁部材であるパイプ15にて環状の外側隙間16と内側隙間17に分けられ、外側隙間16はその上端部及び下端部がシール材18,19にて気密に封止され、封止された外側隙間16はその下部においてチューブ20を介して真空引き装置につながり、また上部において吸引チャック7に形成した吸引孔が連通している。

Claim (excerpt)：

インナーカップの外側に回転するインナーカップからのドレインを受けるアウターカップを配置した回転式薬液処理装置において、前記インナーカップの回転中心には上下方向に貫通する中空孔が設けられ、固定ブロックに取り付けられた洗浄液ノズルが中空孔内周面との間に隙間を形成して中空孔内に挿入されていることを特徴とする回転式薬液処理装置。

IPC (6)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/306 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-145715
  
• 基板端縁洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-360174   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平4-053224
  
• 特開昭58-111320