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J-GLOBAL ID:200903094272911088
酸化亜鉛ナノワイヤの製造方法及びその製造方法により製造された酸化亜鉛ナノワイヤ
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 宇谷 勝幸
, 藤田 健
, 都祭 正則
, 長谷川 俊弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006331077
Publication number (International publication number):2007182370
Application date: Dec. 07, 2006
Publication date: Jul. 19, 2007
Summary:
【課題】直径が小さく、かつ長さが長い酸化亜鉛ナノワイヤの製造方法を提供する。【解決手段】基板15上にヒドロキシル基を含有するZnOシード層25を形成するステップと、ヒドロキシル基を含有するZnOシード層25上にZnOナノワイヤ45を成長させるステップと、を含む。【選択図】図1B
Claim (excerpt):
基板上にヒドロキシル基を含有するZnOシード層を形成するステップと、
前記ヒドロキシル基を含有するZnOシード層上にZnOナノワイヤを成長させるステップと、
を含むことを特徴とする酸化亜鉛ナノワイヤの製造方法。
IPC (3):
C01G 9/02
, B82B 3/00
, B82B 1/00
FI (3):
C01G9/02 B
, B82B3/00
, B82B1/00
F-Term (3):
4G047AA02
, 4G047AB01
, 4G047AD04
Patent cited by the Patent: