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J-GLOBAL ID：200903094277770725
フォトリソグラフィー工程におけるデフォーカス検出方法およびそれに用いるレチクル
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996248388
Publication number (International publication number)：1998090116
Application date： Sep. 19, 1996
Publication date： Apr. 10, 1998
Summary：
【要約】【課題】 微少なデフォーカスが発生した際の検出率を高めることのできるフォトリソグラフィー工程のデフォーカス検出方法を提供する。【解決手段】 未露光領域3内に露光装置の限界解像力以下の幅を有する複数のスリット4を設けたポジ型レジスト用のレチクル1を用いて、半導体基板上のレジストコートに露光を行う。そして、露光後のレジストコートに現像処理を施すと、複数のスリット4を設けた領域がそれ以外の領域より窪んだ凹部となるレジストパターンが形成される。その後、顕微鏡検査や斜光検査を用いてレジストパターンの凹部が形成されているか否かを検査することによって、デフォーカスの有無を判断する。
Claim (excerpt)：
未露光領域と露光領域を有し、前記未露光領域内に露光装置の限界解像力以下の幅を有する露光光透過領域として近接した複数のスリットを設けたポジ型レジスト用製品レチクルを用いて、半導体基板上のレジストコートに露光を行う露光工程と、露光後のレジストコートに現像処理を施すことにより、前記未露光領域内で前記複数のスリットを設けた領域がそれ以外の領域より窪んだ凹部となるレジストパターンを形成する現像工程と、顕微鏡検査もしくは斜光検査によって前記レジストパターンの表面を観察する検査工程、を有することを特徴とするフォトリソグラフィー工程におけるデフォーカス検出方法。
IPC (7)：
G01M 11/00
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, G03F 1/00
, G03F 7/207
, H01L 21/027
, H01L 21/66
G01M 11/00 T
, G01B 11/24 F
, G01N 21/88 E
, G03F 1/00 D
, G03F 7/207 H
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Y
, H01L 21/30 502 V
