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J-GLOBAL ID：200903093859814895

レチクルおよびこれを用いたデフォーカスレベル判定方法

Inventor：
佐藤 敏則

About 佐藤 敏則


Applicant, Patent owner：
日本プレシジョン・サーキッツ株式会社

About 日本プレシジョン・サーキッツ株式会社


Agent (1)： 松田 和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995055540
Publication number (International publication number)：1996248620
Application date： Mar. 15, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：
【要約】【目的】 デフォーカスレベル判定用のパターンをレチクルに設けることにより、露光の際のデフォーカスレベルを簡単に判定できるようにする。【構成】 レチクル2を用いて、ステッパーでレジストが塗布してあるウェハを露光した際、大きさの異なるパターン1a〜1eに応じて形成される開口部の開口状態によって、デフォーカスレベルの判定が行なえる。具体的に述べると、軽度のデフォーカスの場合、大きいサイズのデフォーカスレベル判定用のパターンに応じた開口部は開くが、小さいサイズのデフォーカスレベル判定用のパターンに応じた開口部ホールは開かない。デフォーカスの度合が大きくなるにつれて大きいサイズのデフォーカスレベル判定用のパターンに応じた開口部も開かなくなる。よって、どのサイズのデフォーカスレベル判定用のパターンに応じた開口部まで開いているかによってデフォーカスのレベルを知ることができる。
Claim (excerpt)：
集積回路を形成するための所望のパターンとともにデフォーカスレベル判定用のパターンを備えたことを特徴とするレチクル。
IPC (3)：
G03F 1/08 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 1/08 M ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 502 V
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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