欠陥検査装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (8)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004300266
Publication number (International publication number)：2006112913
Application date： Oct. 14, 2004
Publication date： Apr. 27, 2006
Summary：

【課題】欠陥を確実に検出することが可能な欠陥検査装置を提供する。【解決手段】マスク8に形成されたパターンの微分干渉像を生成する微分干渉光学系7、10と、前記微分干渉光学系の微分干渉効果が生じる方向を時間的に変化させる制御部15、16と、前記制御部による前記微分干渉光学系の微分干渉効果が生じる方向の時間的な変化に対応して時間的に変化する微分干渉像を撮像する撮像部12と、前記撮像部で撮像された時間的に変化する微分干渉像に基づいて前記マスクに形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検出部18、19、20とを備える。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンの微分干渉像を生成する微分干渉光学系と、前記微分干渉光学系の微分干渉効果が生じる方向を時間的に変化させる制御部と、前記制御部による前記微分干渉光学系の微分干渉効果が生じる方向の時間的な変化に対応して時間的に変化する微分干渉像を撮像する撮像部と、前記撮像部で撮像された時間的に変化する微分干渉像に基づいて前記マスクに形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検出部と、を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (3)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , G03F 1/08

FI (3)：

G01N21/956 A , G01B11/30 A , G03F1/08 S

F-Term (33)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC18 , 2F065FF04 , 2F065FF52 , 2F065GG04 , 2F065JJ03 , 2F065LL00 , 2F065LL04 , 2F065LL09 , 2F065LL32 , 2F065LL46 , 2F065MM15 , 2F065QQ13 , 2F065QQ24 , 2F065RR08 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BB07 , 2G051BB09 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB10 , 2G051CC07 , 2G051DA07 , 2H095BC24 , 2H095BD04 , 2H095BD13 , 2H095BD17 , 2H095BD19 , 2H095BD27

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

位相シフトマスクの欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-339522 Applicant：レーザーテック株式会社

Cited by examiner (4)

微分干渉顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-107905 Applicant：富士通株式会社
微分干渉顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-068439 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
マスク欠陥検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-312605 Applicant：株式会社ニコン

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