レジスト塗布組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993123373
Publication number (International publication number)：1994308734
Application date： Apr. 27, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】【構成】放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するレジスト塗布組成物において、溶剤が乳酸エチルと3-エトキシプロピオン酸エチルとの混合溶剤であることを特徴とするレジスト塗布組成物。【効果】本発明のレジスト塗布組成物は、微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるレジスト塗布組成物として好適である。また、本発明のレジスト塗布組成物はi線等の紫外線、エキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線等の荷電粒子線といった、放射線のいずれにも対応でき、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デバイス製造用のレジストとして有用に使用できる。

Claim (excerpt)：

放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するレジスト塗布組成物において、溶剤が乳酸エチルと3-メトキシプロピオン酸エチルとの混合溶剤であることを特徴とするレジスト塗布組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平3-223867
特開平4-328747
特表平3-504422

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