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J-GLOBAL ID:200903094434575737
光学計測用炭素基板とその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 篤
, 鶴田 準一
, 島田 哲郎
, 土屋 繁
, 西山 雅也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003366197
Publication number (International publication number):2005127965
Application date: Oct. 27, 2003
Publication date: May. 19, 2005
Summary:
【課題】 不透明な材料を基板として用いて光学計測を可能とするため表面が極めて平坦な炭素基板を比較的低コストで提供する。【解決手段】 フラン樹脂などの熱硬化性樹脂に粒径10μm以下の黒鉛粉末を混合しシート状に成型後不活性雰囲気下で1400°Cで焼成して得られた炭素基板の表面を平坦に研削する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
ガラス状炭素と該ガラス状炭素中に均一に分散した結晶性炭素とを含む光学計測用炭素基板。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (9):
2G045DA13
, 2G045FA11
, 2G045FA16
, 2G045FB16
, 2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059DD13
, 2G059KK07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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電気化学計測用炭素材料およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-081459
Applicant:三菱鉛筆株式会社
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DNAチップ基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-312738
Applicant:ユニチカ株式会社
-
反応チップ用基板およびこれから作製した反応チップ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-195643
Applicant:鐘淵化学工業株式会社
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蛍光強度増強チップ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-033813
Applicant:横河電機株式会社, 株式会社先端科学技術インキュベーションセンター
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表面処理層が形成された固体支持体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-174865
Applicant:東洋鋼鈑株式会社
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Cited by examiner (5)
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アモルファスカーボン基材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-016950
Applicant:クラスターテクノロジー株式会社
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ガラス状炭素/黒鉛複合材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-045699
Applicant:東洋炭素株式会社
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特開平4-149066
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炭素放熱体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-128548
Applicant:三菱鉛筆株式会社
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DNAチップ基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-312738
Applicant:ユニチカ株式会社
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