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J-GLOBAL ID:200903094630155150
パターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松本 正夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001096223
Publication number (International publication number):2002298141
Application date: Mar. 29, 2001
Publication date: Oct. 11, 2002
Summary:
【要約】【課題】 入力図形に変形があっても厳密に識別することのできる、線図形のパターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラムを提供する。【解決手段】 図形を比較し照合するパターン照合装置において、検査対象の図形である検査図形に生じている変形を、当該検査図形と比較元の図形であるモデル図形とのそれぞれにおける図形内における特徴を示す特徴点の情報に基づいて推定する変形推定部11と、変形推定部11により推定された変形の情報に基づいて、当該検査図形を補正する変形補正部12と、変形補正部12により変形を補正された検査図形を、比較元の図形であるモデル図形と比較し類似度を計算する類似度決定部13を備えることを特徴とする。
Claim (excerpt):
検査図形を比較元の図形であるモデル図形と比較し照合するパターン照合装置において、検査対象の図形である検査図形に生じている変形を、当該検査図形と比較元の図形であるモデル図形とのそれぞれにおける図形内における特徴を示す特徴点の情報に基づいて推定する変形推定手段と、前記変形推定手段により推定された変形の情報に基づいて、当該検査図形を補正する変形補正手段とを備えることを特徴とするパターン照合装置。
IPC (2):
G06T 7/00 300
, G06T 7/00 530
FI (2):
G06T 7/00 300 F
, G06T 7/00 530
F-Term (7):
5B043BA02
, 5B043EA05
, 5B043GA02
, 5L096BA15
, 5L096BA17
, 5L096HA09
, 5L096JA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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