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J-GLOBAL ID：200903094696564558

パターンマッチング方法及び装置

Inventor：
西尾 佳晃

About 西尾 佳晃


Applicant, Patent owner：
株式会社キーエンス

About 株式会社キーエンス


Agent (1)： 河野 登夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000023201
Publication number (International publication number)：2001216470
Application date： Jan. 31, 2000
Publication date： Aug. 10, 2001
Summary：
【要約】【課題】 擦れ,滲み,印字むら,及び細り等に影響され難いパターンマッチング方法及びその実施に使用する装置を提供する。【解決手段】 マッチング候補となる辞書データ(パターン画像)を膨張処理するとともに、前記パターン画像を収縮処理し(ステップ13)、これら膨張及び収縮画像の差分画像を求め(ステップ15)、差分画像に基づいてマスク画像を生成し(ステップ16)、生成したマスク画像以外の領域の画素について、認識対象となる文字を含む画像を前記パターン画像に基づいてマッチング処理する構成とした。
Claim (excerpt)：
マッチング候補となる予め設定されたパターン画像を膨張処理することによって第1パターン画像を生成し、前記パターン画像を収縮処理することによって第2パターン画像を生成するか又は前記パターン画像を前記第2パターン画像とし、前記第1及び第2パターン画像の差分画像を求め、求めた差分画像に基づいてマスク画像を生成し、生成したマスク画像以外の領域の画素について、認識対象となる文字を含む画像を前記パターン画像に基づいてマッチング処理することを特徴とするパターンマッチング方法。
IPC (2)：
G06K 9/62 ,  G06T 7/00
FI (2)：
G06K 9/62 D ,  G06F 15/70 455 A
F-Term (15)：
5B064AA05 ,  5B064CA02 ,  5B064CA12 ,  5B064CA13 ,  5B064DA22 ,  5B064DB18 ,  5L096BA17 ,  5L096EA02 ,  5L096EA12 ,  5L096EA39 ,  5L096FA06 ,  5L096GA08 ,  5L096GA10 ,  5L096HA09 ,  9A001HH22
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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