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J-GLOBAL ID：200903094713038539

光学補償シートおよび光学補償シートの製造方法

Inventor：
西川 秀幸

About 西川 秀幸

, 
河田 憲

About 河田 憲


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 柳川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999276740
Publication number (International publication number)：2001100028
Application date： Sep. 29, 1999
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：
【要約】【課題】 シンナモイル基を側鎖に有するディスコティック液晶性分子から形成された光学的異方性層の光重合時に、シンナモイル基の光反応を抑え、光学的な異方性を保持したまま配向を固定化することが可能な光学補償シートの製造方法、光学補償シートおよびSTN型液晶表示装置を提供すること。【解決手段】 透明支持体上に、側鎖にシンナモイル基を有するディスコティック液晶性分子からなる塗布層を形成し、配向処理して配向液晶性分子層とした後、該配向液晶性分子層に紫外線を照射して重合させることによって、配向状態を保持させながら該液晶性分子の配向を固定して光学的異方性層を形成することからなる光学補償シートの製造方法。
Claim (excerpt)：
透明支持体上に、下記一般式:【化1】[式中、A1およびA2は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が1乃至12のアルキル基、および炭素原子数が1乃至12のアルコキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表し;Zは、ハロゲン原子、炭素原子数が1乃至12のアルキル基、炭素原子数が1乃至12のアルコキシ基、炭素原子数が2乃至13のアシル基、および炭素原子数が1乃至12のアルキルアミノ基、および炭素原子数が2乃至13のアシルオキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表し;Lは、-O-、-CO-、-S-、-NH-、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し;Qは、重合性基を表し;aは、1乃至5の整数を表し;そして、bは、0乃至4の整数を表す;但し、aとbとの和は、1乃至5の整数である]で表されるディスコティック液晶性分子からなる塗布層を形成し、配向処理して配向液晶性分子層とした後、該配向液晶性分子層に紫外線を照射して重合させることによって、配向状態を保持させながら該液晶性分子の配向を固定して光学的異方性層を形成することからなる光学補償シートの製造方法。
IPC (3)：
G02B 5/30 ,  C09K 19/32 ,  G02F 1/13363
FI (3)：
G02B 5/30 ,  C09K 19/32 ,  G02F 1/13363
F-Term (23)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB49 ,  2H049BC02 ,  2H049BC05 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC23 ,  2H091GA06 ,  2H091HA10 ,  4H027BA08 ,  4H027BA14 ,  4H027BB04 ,  4H027BD07 ,  4H027BD20 ,  4H027BE06 ,  4H027DM03 ,  4H027DM05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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