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J-GLOBAL ID：200903094766473300

半導体装置の製造装置

Inventor： 高橋 雅臣
Applicant, Patent owner： 九州日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997125578
Publication number (International publication number)：1998321598
Application date： May. 15, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】同一機種の多数の製造装置間に装置のインピーダンスの差が存在していてもそれを容易に補償することにより、ウェハ処理条件を一定にして生産性を向上させる。【解決手段】対向配置した第1および第2の電極2、3を有するプラズマ処理室4と、第1の電極2に整合回路6を介して接続された高周波電源4と、第2の電極3に接続されるインピーダンス調整回路17を有するインピーダンス測定・調整手段20とを具備する。

Claim (excerpt)：

たがいに対向配置した第1および第2の電極を有するプラズマ処理室と、前記第1の電極に整合回路を介して接続された高周波電源と、前記第2の電極に接続されるインピーダンス調整回路を有するインピーダンス測定・調整手段とを具備したことを特徴とする半導体装置の製造装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 C ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭54-040079
  
• 高周波装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-233776   Applicant：日本電子株式会社