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J-GLOBAL ID：200903094840449742

スラグ硬化体の製造方法

Inventor：
松永 久宏

About 松永 久宏

, 
高木 正人

About 高木 正人

, 
小菊 史男

About 小菊 史男


Applicant, Patent owner：
川崎製鉄株式会社

About 川崎製鉄株式会社


Agent (1)： 小杉 佳男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001112454
Publication number (International publication number)：2002308662
Application date： Apr. 11, 2001
Publication date： Oct. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】本発明は、転炉スラグ及び取鍋精錬スラグを原料の一部として使用して得たスラグ硬化体の強度不足、ひび割れの発生、遊離MgOに起因する膨張等の問題を一挙に解決可能なスラグ硬化体の製造方法を提供することを目的としている。【解決手段】粉粒状の製鋼スラグと潜在水硬性を有するSiO2含有物質とを水で混練してスラグ硬化体を製造する方法において、前記製鋼スラグとして未滓化MgOが1質量%以下で、且つ晶出MgOが10質量%以下の転炉スラグ及び/又は取鍋精錬スラグを、前記潜在水硬性を有するSiO2含有物質として高炉スラグ微粉末を使用すると共に、水を除く全配合物質における粒径1.18mm以下の該転炉スラグ及び/又は取鍋精錬スラグの含有率を10〜90質量%、高炉スラグ微粉末の含有率を9〜40質量%とする。
Claim (excerpt)：
粉粒状の製鋼スラグと潜在水硬性を有するSiO2含有物質とを水で混練してスラグ硬化体を製造する方法において、前記製鋼スラグとして未滓化MgOが1質量%以下で、且つ晶出MgOが10質量%以下の転炉スラグ及び/又は取鍋精錬スラグを、前記潜在水硬性を有するSiO2含有物質として高炉スラグ微粉末を使用すると共に、水を除く全配合物質における粒径1.18mm以下の該転炉スラグ及び/又は取鍋精錬スラグの含有率を10〜90質量%、高炉スラグ微粉末の含有率を9〜40質量%とすることを特徴とするスラグ硬化体の製造方法。
IPC (12)：
C04B 28/08 ,  C04B 5/00 ,  C21C 5/28 ,  C21C 7/00 ,  C21C 1/02 ,  C04B 18:08 ,  C04B 22:06 ,  C04B 22:14 ,  C04B 22:12 ,  C04B 24:20 ,  C04B 24:04 ,  C04B111:20
FI (12)：
C04B 28/08 ,  C04B 5/00 C ,  C21C 5/28 C ,  C21C 7/00 J ,  C21C 1/02 L ,  C04B 18:08 Z ,  C04B 22:06 Z ,  C04B 22:14 A ,  C04B 22:12 ,  C04B 24:20 ,  C04B 24:04 ,  C04B111:20
F-Term (25)：
4G012JD00 ,  4G012JE02 ,  4G012JE06 ,  4G012MA00 ,  4G012MB08 ,  4G012MB12 ,  4G012PA27 ,  4G012PA29 ,  4G012PB03 ,  4G012PB09 ,  4G012PB10 ,  4G012PB16 ,  4G012PB24 ,  4G012PC03 ,  4G012PC04 ,  4G012PC11 ,  4G012PD01 ,  4G012PE07 ,  4K013CF01 ,  4K014AE01 ,  4K070AB11 ,  4K070BC13 ,  4K070BC14 ,  4K070EA02 ,  4K070EA27
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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