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J-GLOBAL ID：200903094845763780

超微粒懸濁型地盤改良薬液の製造・注入方法とシステム並びに装置

Inventor： 杉本 光 ,  杉本 弘
Applicant, Patent owner： 東光技研株式会社 ,  アロイ工業株式会社 ,  杉本 光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997149822
Publication number (International publication number)：1998306436
Application date： May. 06, 1997
Publication date： Nov. 17, 1998
Summary：

【要約】【目的】浸透性がよく、しかも強度が得られる地盤改良薬液の製造・注入方法及びそのためのシステム並びにそのための装置を開発することである。【横成】セメント又はセメント硬化剤などを水によって懸濁状態またはスラリー状態にしたものを別々に又は同時に湿式粉砕機にかけて、それらの粒子が20ミクロン以下になるように粉砕した超微粒懸濁型セメント液と超微粒懸濁型セメント硬化剤液とを混合した超微粒懸濁型地盤改良薬液を注入管により地盤、岩の割れ目、コンクリートの空隙部などに注入する方法、システム並びにそれに用いる装置。【効果】粒径が20ミクロン以下なので、浸透性がよく強度的にも優れた超微粒懸濁型地盤改良薬液が、簡単な装置で自動的に効率よく製造・注入できる。

Claim (excerpt)：

セメントと水とをミキサーに入れて懸濁状態又はスラリー状態にし、これを容器に入れ、該容器内に設けられている回転軸及びそれに適宜間隔ごとに取り付けられている棒状物を回転させることにより該容器の中に入れられた粉砕ボールで打撃させることによりセメント粒子の粒径が20ミクロン以下になるように粉砕し、これにより製造された超微粒懸濁型セメント液(以下,純粋液という)をそのまま又はセメントの粒径が20ミクロン以上のものを除去するためのフルイ等により成分調整したり又は濃度調整した調整型の超微粒懸濁型セメント液(以下、調整液という)、を注入装置により地盤や岩の裂け目、又はコンクリートの空隙部や割れ目などに注入するようにした超微粒懸濁型地盤改良薬液の製造・注入方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 高圧噴射攪拌法による地盤改良工法とその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-172657   Applicant：協和開発株式会社, 杉本智和, 高田滋彦
• 薬液注入工法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-151427   Applicant：株式会社シモダ技術研究所, 第一セメント株式会社, 東曹産業株式会社