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J-GLOBAL ID：200903094861770281

スパッタリングターゲットとその製造方法

Inventor： 渡辺 高志 ,  小松 透
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003334898
Publication number (International publication number)：2005097697
Application date： Sep. 26, 2003
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：

【課題】Mo-W合金系のスパッタリングターゲットにおいて、比較的低温での焼結により高密度化が可能であると共に、それを用いて成膜した合金膜のより一層の低抵抗化を実現した。【解決手段】0.1〜50質量%の範囲のAlを含有し、残部が実質的にMo-W合金からなる組成を有するMo-W-Al材により構成されたスパッタリングターゲット2である。Mo-W合金は、例えば0.1〜70質量%の範囲のWを含有し、残部が実質的にMoからなる組成を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

0.1〜50質量%の範囲のAlを含有し、残部が実質的にMo-W合金からなるMo-W-Al材を具備することを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (4)：

C23C14/34 ,  B22F3/105 ,  C22C1/04 ,  C22C27/04

FI (4)：

C23C14/34 A ,  B22F3/105 ,  C22C1/04 D ,  C22C27/04

F-Term (17)：

4K018AA20 ,  4K018AA22 ,  4K018BA08 ,  4K018BA09 ,  4K018BB04 ,  4K018BC12 ,  4K018CA11 ,  4K018DA11 ,  4K018DA21 ,  4K018DA25 ,  4K018DA32 ,  4K018EA01 ,  4K018EA11 ,  4K018KA29 ,  4K018KA58 ,  4K029DC04 ,  4K029DC09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 国際公開第95/16797号パンフレット
  
• モリブデン-タングステン系ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-209742   Applicant：日立金属株式会社