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J-GLOBAL ID:200903094877728587

複合材料の作製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 北村 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996067559
Publication number (International publication number):1997256145
Application date: Mar. 25, 1996
Publication date: Sep. 30, 1997
Summary:
【要約】【課題】 レーザーアブレーション法により複合材料を作製する場合に、ターゲットと作製物との間で組成ずれが発生しにくく、所定の組成の薄膜を得る場合に、成膜条件を広く安定して取ることが可能である複合材料の作製方法を得る。【解決手段】 2種以上の成分を所定の組成比で含有するターゲット10を作製するとともに、減圧真空維持される成膜室6内で、基板3に対向させて、ターゲット10を配設し、ターゲット10にレーザー光5を照射してターゲット10よりプルーム15を発生させて基板3上に蒸着させて、レーザーアブレーション法により基板3上に複合材料を作製するに、成膜室6を真空排気した後、成膜室内に不活性ガスを導入して、成膜室内の圧力を0.01〜5Torrに維持して、複合材料を作製する。
Claim (excerpt):
2種以上の成分を所定の組成比で含有するターゲット(10)を作製するとともに、減圧真空維持される成膜室(6)内で、基板(3)に対向させて、前記ターゲット(10)を配設し、前記ターゲット(10)にレーザー光(5)を照射して前記ターゲット(10)よりプルーム(15)を発生させて前記基板(3)上に蒸着させて、レーザーアブレーション法により前記基板(3)上に複合材料を作製する複合材料の作製方法であって、前記成膜室(6)を真空排気した後、前記成膜室内に不活性ガスを導入して、前記成膜室内の圧力を0.01〜5Torrに維持して、前記複合材料を作製する複合材料の作製方法。
IPC (3):
C23C 14/28 ,  H01L 35/16 ,  H01L 35/34
FI (3):
C23C 14/28 ,  H01L 35/16 ,  H01L 35/34
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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