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J-GLOBAL ID：200903094971554401

カーボンナノチューブの製造方法及び非晶質カーボンロッドの製造方法、並びにそれらに用いる製造用基材

Inventor：
木村 勇気

About 木村 勇気

, 
墻内 千尋

About 墻内 千尋


Applicant, Patent owner：
関西ティー・エル・オー株式会社

About 関西ティー・エル・オー株式会社


Agent (1)： 渡辺 三彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003407905
Publication number (International publication number)：2005022952
Application date： Dec. 05, 2003
Publication date： Jan. 27, 2005
Summary：
【課題】 カーボンナノチューブや非晶質カーボンロッドを容易にかつ低コストで製造できるカーボンナノチューブの製造方法及び非晶質カーボンロッドの製造方法、並びにそれらに用いる製造用基材を提供する。【解決手段】 酸素原子供給源である基板(被成膜物)1の表面1a、又は、この基板1の表面1aに積層された酸素原子透過層41の表面41aに、チタン及び炭素を同時に蒸着して前記チタンを含有する非晶質カーボン膜2を形成し、この非晶質カーボン膜2を真空中で750乃至950°Cに加熱することによって、前記非晶質カーボン膜2の表面2aにカーボンナノチューブや非晶質カーボンロッドを生成させる。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
酸素原子供給源である被成膜物の表面、又は、この被成膜物の表面に積層された酸素原子透過層の表面に、チタン及び炭素を同時に蒸着して前記チタンを含有する非晶質カーボン膜を形成し、この非晶質カーボン膜を真空中で750乃至950°Cに加熱することによって、前記非晶質カーボン膜の表面にカーボンナノチューブを生成させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
IPC (1)：
C01B31/02
FI (1)：
C01B31/02 101F
F-Term (14)：
4G146AA11 ,  4G146AC01A ,  4G146AC03B ,  4G146AD02 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC02 ,  4G146BC06 ,  4G146BC10 ,  4G146BC27 ,  4G146BC33A ,  4G146BC33B ,  4G146BC38B ,  4G146BC43
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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