Pat

J-GLOBAL ID：200903095212800895

粒度分布測定方法および装置

Inventor： 大畑 学
Applicant, Patent owner： 日機装株式会社
Agent (1)： 円城寺 貞夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001315026
Publication number (International publication number)：2003121338
Application date： Oct. 12, 2001
Publication date： Apr. 23, 2003
Summary：

【要約】【課題】各種粉体試料の濃度に応じて測定セルにおける散乱場の光路長を変更して、散乱光の強度を適正範囲とし粒度分布等の測定精度を向上させるようにした粒度分布測定方法および装置を提供する。【解決手段】測定セル4中の試料が存在する散乱場40に測定光を照射し、試料粒子によって回折または散乱された散乱光を検出することにより、試料粒子の粒度分布を測定する粒度分布測定方法であって、前記散乱場に測定光を照射し、試料による散乱光または直接透過光の強度を検出する手順と、試料による散乱光の強度が適正範囲内となるように、前記散乱場における測定光の光路長Lを変更する手順とを有する。

Claim (excerpt)：

測定セル(4)中の試料が存在する散乱場(40)に測定光を照射し、試料粒子によって回折または散乱された散乱光を検出することにより、試料粒子の粒度分布を測定する粒度分布測定方法であって、前記散乱場(40)に測定光を照射し、試料による散乱光または直接透過光の強度を検出する手順と、試料による散乱光の強度が適正範囲内となるように、前記散乱場(40)における測定光の光路長(L)を変更する手順とを有する粒度分布測定方法。

IPC (4)：

G01N 15/02 ,  G01N 21/03 ,  G01N 21/47 ,  G01N 21/49

FI (4)：

G01N 15/02 A ,  G01N 21/03 Z ,  G01N 21/47 A ,  G01N 21/49 A

F-Term (24)：

2G057AA01 ,  2G057AA02 ,  2G057AB04 ,  2G057AB06 ,  2G057AB07 ,  2G057AC06 ,  2G057BA01 ,  2G057BB06 ,  2G057DA15 ,  2G059AA05 ,  2G059BB06 ,  2G059BB09 ,  2G059CC19 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ11 ,  2G059KK01 ,  2G059KK03 ,  2G059LL01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059NN01 ,  2G059PP04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 散乱式粒度分布測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-021725   Applicant：株式会社堀場製作所
• 特開昭51-112388
  
• 特開昭51-112388
  
• 特開昭51-112388