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J-GLOBAL ID：200903095293845006

吸収物質濃度の空間分布画像化方法

Inventor： 牧 敦 ,  アディ・ボネン ,  伊藤 嘉敏 ,  山下 優一 ,  平林 由紀子 ,  小泉 英明 ,  川口 文男 ,  藤井 秀司
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994161823
Publication number (International publication number)：1996029329
Application date： Jul. 14, 1994
Publication date： Feb. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】 光を用いて散乱体中の吸収物質濃度の空間分布を画像化する方法を提供する。【構成】 計測された検出光強度から計測値行列Yを生成するstep1、散乱体内部の吸収物質の吸光係数と、吸収物質の存在しない散乱体を模擬して得る散乱体内における光が通過する光路データをモンテカルロ法により求め、光路データから、平均光路長の空間分布行列Aを生成するstep2、行列Yと行列Aから未知数行列Xを導出するstep3、求められた未知数行列Xから被検体内部の吸収物質濃度を求めこの空間分布を表示するstep4からなる画像化する方法である。モンテカルロ法による光路の計算が、step2の処理開始以前に既になされ、光路データが記憶保存されている場合には、記憶保存されている光路データを使用する。【効果】 高分解能に精度良く、高速に吸収物質濃度の3次元分布を画像化できる。

Claim (excerpt)：

光吸収物質を含んでなる光散乱体からなる被検体に、所定の光照射位置から所定の波長を有するパルス光又は連続光を照射する照射ステップと、前記被検体を通過する光の強度を所定の光検出位置で検出する検出ステップと、を有し前記被検体内に分布する吸収物質濃度の空間分布画像化方法において、前記被検体と同一又は類似した形状を有し、吸収物質を含まない仮想被検体を想定して、前記仮想被検体において設定される光照射位置と光検出位置の複数の対のそれぞれで、光子がたどる前記光照射位置から前記光検出位置に至るまでの複数の光路を求めるステップと、前記複数の光路から前記光照射位置から前記光検出位置までの前記仮想被検体内における平均光路長を求めるステップと、前記平均光路長と、前記被検体に照射される照射光強度と、前記光検出位置で検出される検出光強度と、前記被検体に照射される光に対する吸収物質の光学定数とから、前記吸収物質の濃度の空間分布を求めるステップと、前記吸収物質の濃度の空間分布を表示するステップと、を有することを特徴とする吸収物質濃度の空間分布画像化方法。

IPC (2)：

G01N 21/27 ,  A61B 10/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 光CT画像装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-063055   Applicant：株式会社日立製作所, 学校法人東海大学
• 光計測方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-266062   Applicant：株式会社日立製作所, 学校法人東海大学