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J-GLOBAL ID：200903095309706630

高COD,高TOC,高塩類含有液状廃棄物の処理方法

Inventor： 細見 正明 ,  高梨 正夫 ,  間瀬 博子 ,  宮田 博司
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社 ,  浅野工事株式会社 ,  株式会社西原環境衛生研究所
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996232044
Publication number (International publication number)：1998076293
Application date： Sep. 02, 1996
Publication date： Mar. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 写真廃液等の高COD,高TOC,高塩類含有液状廃を低コストにて効率的に処理する。【解決手段】 写真廃液等の高COD,高TOC,高塩類含有液状廃棄物をイオウ酸化細菌で処理する。その後、過酸化水素を添加して処理する。【効果】 イオウ酸化細菌によりS2 O3 2-等の無機CODがSO4 2-まで酸化されると共に、TOCも50%以上分解除去される。その結果、フェントン処理におけるコストも69〜85%節約することができる。

Claim (excerpt)：

COD、TOC及び塩類含有率の高い液状廃棄物をイオウ酸化細菌で処理することを特徴とする高COD,高TOC,高塩類含有液状廃棄物の処理方法。

IPC (3)：

C02F 3/34 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/72 ZAB

FI (3)：

C02F 3/34 Z ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/72 ZAB Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 還元性硫黄化合物含有排水の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-068982   Applicant：新日本製鐵株式会社
• 特開平4-268000
  
• 特開平4-200798