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J-GLOBAL ID：200903095341299930

コンパクトな設計の高度繰り返しレーザーシステム

Inventor：
コプフ、ダニエル

About コプフ、ダニエル

, 
レデラー、マクシミリアン、ヨーゼフ

About レデラー、マクシミリアン、ヨーゼフ


Applicant, Patent owner：
ハイ キュー レーザー プロダクション ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

About ハイ キュー レーザー プロダクション ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング


Agent (3)： 瀧野 秀雄 ,  越智 浩史 ,  瀧野 文雄
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006540379
Publication number (International publication number)：2007512693
Application date： Nov. 25, 2004
Publication date： May. 17, 2007
Summary：
本発明は、再現可能な増幅器原理によって操作する高度に繰り返すレーザーシステムに関する。前記システムは、少なくとも一つの増幅したレーザー媒質(6)と、少なくとも一つの共振ミラー(5)と少なくとも一つの変調器(3)と前記レーザー媒質(6)をポンプするために用いられるポンプ源、特にレーザーダイオード源とを備えたレーザー共振器とからなる。前記高度繰り返しレーザーシステムは、構造又は材料によって高度分散効果を有するパルス拡張器(7)がレーザー共振器に集積化されることのおかげでコンパクトである。
Claim (excerpt)：
少なくとも、 増幅したレーザー媒質(6)と 少なくとも一つの共振器ミラー(5)を有するレーザー共振器と、少なくとも一つの変調器(3)と レーザー媒質(6)をポンプするための、特にレーザダイオードからなるレーザーポンプ源とからなり、 前記レーザー共振器が、構造及び/又は材料に関連した高度分散効果を有するパルス幅延長回路(7、8a、8b)を有することを特徴とする、再生増幅器の原理に従う繰り返し率が50kHz以上のレーザーシステム。
IPC (1)：
H01S 3/107
FI (1)：
H01S3/107
F-Term (16)：
5F172AE06 ,  5F172AF07 ,  5F172AL01 ,  5F172CC07 ,  5F172CC10 ,  5F172DD03 ,  5F172EE13 ,  5F172NN13 ,  5F172NN17 ,  5F172NN26 ,  5F172NN27 ,  5F172NQ24 ,  5F172NQ32 ,  5F172NQ42 ,  5F172NQ47 ,  5F172NQ48
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 分散補正装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-061113   Applicant：日本電信電話株式会社
  • 超短パルスレーザ装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-068725   Applicant：浜松ホトニクス株式会社
  • 特開平2-023302
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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