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J-GLOBAL ID：200903095533467039

光学材料、光学素子、回折光学素子、積層型回折光学素子、光学系及び光学素子の成形方法

Inventor：
大金 政信

About 大金 政信


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003068112
Publication number (International publication number)：2004004605
Application date： Mar. 13, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：
【課題】室温での成形において光学材料の結晶化を抑制することができ、レプリカ成形に適した滴下量を適正に制御することが可能となる屈折率分散のより大きな光学材料を提供する。【解決手段】少なくとも、N-ビニルカルバゾールと、ポリビニルカルバゾール、及び光重合開始剤からなる光学材料を使用することにより、室温での成形において光学材料の結晶化を抑制することができ、レプリカ成形に適した滴下量を適正に制御することが可能となる。また、N-ビニルカルバゾールとポリビニルカルバゾールの割合を、N-ビニルカルバゾール/ポリビニルカルバゾール=90/10〜70/30とする事により、更に室温でのレプリカ成形に適した光学材料とする事ができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
光重合により光学素子を成形する光学材料において、少なくともN-ビニルカルバゾールと、ポリビニルカルバゾール、及び光重合開始剤を含むことを特徴とする光学材料。
IPC (3)：
G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G02B5/18
FI (3)：
G02B1/04 ,  G02B3/00 Z ,  G02B5/18
F-Term (7)：
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA33 ,  2H049AA39 ,  2H049AA48 ,  2H049AA63 ,  2H049AA64
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • 特開平2-015269
  • 特開平3-121484
  • 特開平1-107207
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