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J-GLOBAL ID：200903095545618326
集束イオンビーム装置
Inventor：
,
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996093825
Publication number (International publication number)：1997283039
Application date： Apr. 16, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：
【要約】【課題】液体金属イオン源の引出し電極下の絞りにイオンが照射されて生じる二次電子がイオン源のエミッタに入射して、放出イオン電流の測定誤差,液体金属イオン源の不安定化が発生するのを防止する。【解決手段】引出し電極形状を二次電子が衝突しやすい円錐面状にする、または、二次電子を反発するような電位を印加して電子が電極孔を通過してエミッタに入射するのを防止する。
Claim (excerpt)：
引出し電極,エミッタよりなる液体金属イオン源、及び、その下流に配置された絞りを有する集束イオンビーム装置において、上記液体金属イオン源の引出し電極の内面形状が、上記液体金属イオン源のエミッタ先端を概ね頂点とする、開き角10度以上,70度以下の円錐面であることを特徴とする集束イオンビーム装置。
IPC (5)：
H01J 27/26
, G03F 1/00
, H01J 37/08
, H01L 21/027
, H01L 21/302
H01J 27/26
, G03F 1/00 Y
, H01J 37/08
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/302 Z
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