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J-GLOBAL ID：200903095589041018

マスクブランク、不要膜除去方法及びその装置、並びにマスクブランク及びマスクの製造方法

Inventor：
畑 光明

About 畑 光明


Applicant, Patent owner：
HOYA株式会社

About HOYA株式会社


Agent (1)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002283822
Publication number (International publication number)：2003173019
Application date： Sep. 27, 2002
Publication date： Jun. 20, 2003
Summary：
【要約】【課題】 基板表面に形成された膜のうち不要な部分を、ユーザ仕様に応じて除去できるようにする。【解決手段】 基板表面に形成された膜のうちの不要な部分を溶媒によって溶解除去する不要膜除去方法であって、基板10の表面をカバー部材30で覆い、このカバー部材30の上から溶媒50を供給してこの溶媒50をカバー部材30の周辺部に設けられた溶媒供給孔31を通じて不要な部分を溶媒で溶解して除去する。この際、所定の溶媒供給孔31を有する溶媒供給部材38をカバー部材30の周辺部に交換可能に設けて、溶媒供給孔31を通じて不要な膜部分へ供給される溶媒50の供給量又は/及び供給位置を調整できるようにする。
Claim (excerpt)：
基板上に被転写体に転写すべく転写パターンを有する転写マスクの原版であるマスクブランクにおいて、該マスクブランクは、前記基板上に前記転写パターンとなる薄膜と、レジスト膜とを有し、前記基板主表面の周辺部に形成されたレジスト膜が、露光装置の保持部材により支持されるマスクブランクの被支持部領域、及びその周辺領域において残存され、それらの領域以外は除去されていることを特徴とするマスクブランク。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 1/08 Z ,  G03F 1/08 M ,  H01L 21/30 502 P
F-Term (7)：
2H095BB18 ,  2H095BB23 ,  2H095BB27 ,  2H095BB30 ,  2H095BB36 ,  2H095BC01 ,  2H095BE04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (4)
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