ウェハステージ装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993201560
Publication number (International publication number)：1995058191
Application date： Aug. 13, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】この発明の目的は、ウェハの反りを解消した状態で確実に固定することが可能なウェハステージ装置を提供することである。【構成】ステージ11の各貫通孔13はバキュームライン14を介して真空ポンプ15に接続される。各バキュームライン14には電磁弁16a〜16gが設けられ、各電磁弁16a〜16gは制御部17によってウェハの反りに応じて開放タイミングが制御される。したがって、大きく反ったウェハをフラットな状態でステージに吸着できる。

Claim (excerpt)：

ウェハが表面に載置され、このウェハを吸着するための複数の貫通孔を有するステージと、一端部が前記ステージの各貫通孔に接続され、他端部が真空ポンプに接続された複数のバキュームラインと、前記各バキュームラインの中間部に設けられ、バキュームラインを遮断する遮断手段と、前記ウェハの反りに応じて、前記遮断手段の開放タイミングを制御する制御手段とを具備することを特徴とするウェハステージ装置。

IPC (4)：

H01L 21/68 , B23Q 3/08 , H01L 21/027 , H01L 21/3065

FI (2)：

H01L 21/30 511 , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

基板の吸着保持装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-183897 Applicant：株式会社ニコン
特開昭55-160439
特開平2-311234

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