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J-GLOBAL ID:200903095752827733
皮膚化粧料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994112086
Publication number (International publication number):1995291846
Application date: Apr. 26, 1994
Publication date: Nov. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】紫外線による皮膚の炎症および荒れ肌を抑制ないし改善する効果を有する皮膚化粧料の提供。【構成】炭素数が3から18であるα-ヒドロキシカルボン酸と紫外線吸収剤及び/又は紫外線散乱剤とを含有する。
Claim (excerpt):
炭素数が3から18であるα-ヒドロキシカルボン酸と紫外線吸収剤及び/又は紫外線散乱剤とを含有することを特徴とする皮膚化粧料。
IPC (4):
A61K 7/42
, A61K 7/00
, A61K 7/44
, A61K 7/48
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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特開平2-167212
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特開昭63-166837
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特開昭62-129212
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特開平4-226906
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特開平4-049212
-
特開平3-170416
-
特開昭63-068519
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レチノール含有化粧品組成物
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平6-510720
Applicant:ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
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スキントリートメント組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-099358
Applicant:ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
-
化粧品組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-019278
Applicant:ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
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