真空処理装置用チャンバー

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤隆久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995329186
Publication number (International publication number)：1997171995
Application date： Dec. 18, 1995
Publication date： Jun. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】ほとんどの真空処理装置に汎用的に使え、小型で低コスト化できる構造により覗き窓の曇りを防止する。【解決手段】チャンバー本体26aと、この真空隔壁の一部を形成し、これを通じてチャンバー本体26a内部の視認が可能な覗き窓42と、該覗き窓42の真空側面に沿ったチャンバー本体26a内の覗き窓近傍領域に対し、磁力線Mが略平行にかかるように前記真空隔壁に配置させた磁石とを少なくとも有する。電子が覗き窓近傍に略平行にかかった磁力線Mに沿ってサイクロトロン運動してイオンを作り、これが覗き窓42に付着した反応生成物をマグネトロンスパッタして除去する。小型でコストを余りかけないためには、磁石として永久磁石48,50を用い、そのN極を覗き窓42の一方側に、S極を他方側にそれぞれ臨ませてチャンバー本体26aの真空隔壁の外側面に取り付けるとよい。

Claim (excerpt)：

内部を真空に保つためのチャンバー本体と、該チャンバー本体の真空隔壁の一部を形成し、これを通じてチャンバー本体内部の視認が可能な覗き窓と、該覗き窓の真空側面に沿った前記チャンバー本体内の覗き窓近傍領域に対し、磁力線が略平行にかかるように前記真空隔壁に配置させた磁石と、を少なくとも有する真空処理装置用チャンバー。

IPC (6)：

H01L 21/3065 , C23C 14/52 , C23F 4/00 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/31

FI (6)：

H01L 21/302 B , C23C 14/52 , C23F 4/00 A , H01L 21/203 S , H01L 21/205 , H01L 21/31 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-145127
プラズマ処理方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-270866 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭63-128632

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