フォーカスモニタ方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000172625
Publication number (International publication number)：2001351853
Application date： Jun. 08, 2000
Publication date： Dec. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】フォーカス状態からのずれ量及びずれ方向を高精度且つ簡便に検出することができ、露光精度の向上等に寄与し得る。【解決手段】斜入射照明によりウェハー表面の高さ位置を測定するフォーカス測定装置130を備えた露光装置110において、ウェハー115上にパターンを転写する際の最適なフォーカス状態からのずれ量をモニタするフォーカスモニタ方法であって、フォーカスずれに応じてパターンの寸法が変わるフォーカスモニタパターンを有するマスク113を用いてウェハー115上にパターンを転写し、パターン転写時のフォーカス測定装置130による位置情報を取得し、パターン転写によりウェハー115上に形成されたフォーカスモニタパターンのパターン寸法を計測装置120により計測し、取得された位置情報と計測されたパターン寸法に基づいてフォーカス位置ずれ量及び位置ずれ方向を求める。

Claim (excerpt)：

ウェハー表面に対して斜め方向から光を照射し、その反射光を光位置検出器で検出することによりウェハー表面の高さ位置を測定する位置測定機構を備えた露光装置において、ウェハー上にパターンを転写する際の最適なフォーカス状態からのずれ量をモニタするフォーカスモニタ方法であって、フォーカスずれに応じてパターンの寸法が変わるフォーカスモニタパターンを有するマスクを用いてウェハー上にパターンを転写する工程と、前記パターン転写時の前記位置測定機構による位置情報を取得する工程と、前記パターン転写により前記ウェハー上に形成されたフォーカスモニタパターンのパターン寸法を計測する工程と、前記取得された位置情報と前記計測されたパターン寸法に基づいてフォーカス位置ずれ量及び位置ずれ方向を求める工程とを含むことを特徴とするフォーカスモニタ方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G01B 11/02 , G02B 7/28 , G03F 7/207

FI (6)：

G01B 11/00 B , G01B 11/02 Z , G03F 7/207 H , H01L 21/30 526 A , G02B 7/11 N , G02B 7/11 M

F-Term (17)：

2F065AA02 , 2F065AA20 , 2F065AA21 , 2F065CC19 , 2F065FF01 , 2F065FF44 , 2F065HH12 , 2F065JJ05 , 2F065JJ16 , 2F065LL00 , 2F065QQ25 , 2H051AA10 , 2H051BB27 , 2H051CB23 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046DB10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開平2-294643
特開平2-157844
特開平2-030112

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