プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：土井育郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993206963
Publication number (International publication number)：1995045194
Application date： Jul. 30, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】サブトラクティブ加工によりガラス基板のエッジまで障壁パターンを形成するに際し、エッジ付近に欠陥を生じないようにする。【構成】ガラスペースト層2とマスク3をそれぞれガラス基板1のエッジまで形成し、ガラス基板1と同じ高さとなる補助板6をガラス基板1のエッジ端面に接するように配設した状態でサブトラクティブ加工を行う。補助板6がサブトラクティブ加工時の気流の流れを堰き止めるように作用し、その結果、ガラスペースト層2におけるエッジ付近での研削速度が他の部分に比べて速くなるが防止され、エッジ付近に欠陥を生じることなく所望パターンの障壁を形成できる。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペースト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有するマスクを形成した後、該マスクを介してのサブトラクティブ加工によりガラスペースト層の不要部分を除去する工程を含むプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法において、ガラスペースト層とマスクをそれぞれガラス基板のエッジまで形成し、ガラス基板と同じ高さとなる補助板をガラス基板のエッジ端面に接するように配設した状態でサブトラクティブ加工を行うことによりガラス基板のエッジまで障壁パターンを形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法。

IPC (2)：

H01J 9/24 , H01J 17/04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

プラズマデイスプレイ基板の厚膜パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-205583 Applicant：大日本印刷株式会社
特開平4-282531
特開平2-301934

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