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J-GLOBAL ID：200903096464697783

流体制御弁

Inventor： 赤木 徹也 ,  堂田 周治郎 ,  片山 真一 ,  黒澤 賢一
Applicant, Patent owner： SMC株式会社
Agent (2)： 若田 勝一 ,  若田 充史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008070482
Publication number (International publication number)：2009222204
Application date： Mar. 18, 2008
Publication date： Oct. 01, 2009
Summary：

【課題】管路の外部に開閉駆動力発生装置を有する流体制御弁において、開閉駆動力が比較的小さくてすみ、小型化が可能となる上、弁を開いた状態での脈流が生じることのない流体制御弁を提供する。【解決手段】流体を流す管路5内に弁座3を設ける。管路5内にその内径より小さな直径を有する球状の弁体12を収容する。管路5,6の外部に、弁体12を管路5の内壁に接触させながら偏心回転させる振動モータ8等の回転駆動装置を設ける。弁体12を偏心回転させる力は、流体の流れに逆らって弁を開く力に比較して小さい力ですむため、弁の小型化が可能になる。また、弁体12を偏心回転させている間は弁孔2が開いているので、弁の下流側に脈流を生じることがない。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

流体を流す管路内に設けられた弁座と、 前記弁座の弁孔を閉塞、開放可能に前記管路内に収容され、前記管路の内径より小さな直径を有する球状の弁体と、 前記管路の外部に設けられ、前記弁体を前記管路内壁に接触させながら偏心回転させて前記弁座の弁孔を開く回転駆動装置とを備えたことを特徴とする流体制御弁。

IPC (2)：

F16K 31/04 ,  F16K 1/14

FI (2)：

F16K31/04 A ,  F16K1/14 G

F-Term (10)：

3H052AA01 ,  3H052BA11 ,  3H052BA25 ,  3H052CA01 ,  3H062AA02 ,  3H062AA12 ,  3H062BB04 ,  3H062CC01 ,  3H062EE07 ,  3H062EE09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 電磁弁
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-177351   Applicant：東京瓦斯株式会社
• 流量調整弁
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-167680   Applicant：学校法人立命館