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J-GLOBAL ID：200903096645036100

窒化クロム膜の形成方法

Inventor： 土居 陽 ,  平塚 治男
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996312861
Publication number (International publication number)：1998140335
Application date： Nov. 08, 1996
Publication date： May. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】 生産性が高く、しかも密着性および平滑性の高い窒化クロム膜を形成することができる方法を提供する。【解決手段】 アーク放電によって陰極を溶解させるアーク式蒸発源14であって、クロムから成る陰極16を有するものを用いる。そして、真空容器2内に窒素ガス6を導入すると共に、基材8に負のバイアス電圧を印加しながら、かつ陰極16の表面に窒素含有ガス22を吹き付けながら、陰極16をアーク放電によって溶解させて基材8の表面に窒化クロム膜を形成する。

Claim (excerpt)：

アーク放電によって陰極を溶解させるアーク式蒸発源であってクロムから成る陰極を有するものを用いて、真空容器内に窒素ガスを導入すると共に基材に負のバイアス電圧を印加しながら、かつ陰極の表面に窒素含有ガスを吹き付けながら、陰極をアーク放電によって溶解させて基材の表面に窒化クロム膜を形成することを特徴とする窒化クロム膜の形成方法。

IPC (2)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/06

FI (2)：

C23C 14/24 F ,  C23C 14/06 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• アーク式蒸発源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-108251   Applicant：日新電機株式会社
• 鋼系複合表面処理製品とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-188914   Applicant：株式会社ライムズ, 住友金属鉱山株式会社, 日本電子工業株式会社, 日本コーティングセンター株式会社
• 特開平4-297568