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J-GLOBAL ID：200903096749824754

ガス溶解装置

Inventor： 山下 幸福 ,  今岡 孝之 ,  山中 弘次
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 細井 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996353547
Publication number (International publication number)：1998174854
Application date： Dec. 17, 1996
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 ガス溶解装置を備えたウェット処理装置等の既存の設備に簡単に取り付けることのでき、ガス溶解装置のガス透過膜の洗浄を効果的に行うガス溶解装置を提供する。【解決手段】 ガス透過膜を介して供給されるガスを液中に溶解させるガス溶解装置に、ガス透過膜の洗浄を行うための温水供給管を接続したもので、ガス溶解装置を設けたウェット処理装置等の既存の設備に適用する場合、温水供給管は既存の超純水供給管やガス供給管に切替え弁を介して接続し、洗浄後の排温水を排水回収装置に移送するための排温水管を、洗浄槽に洗浄液を供給するための既存の洗浄液供給管や、ガス処理装置に余剰ガスを移送するための余剰ガス排出管に切替え弁を介して接続すると、既存の設備に簡単な加工を施すだけで取り付けができるため好ましい。

Claim (excerpt)：

ガス透過膜を介して供給されるガスを液中に溶解させるガス溶解装置において、該装置はガス透過膜の洗浄を行うための温水供給管が設けられていることを特徴とするガス溶解装置。

IPC (3)：

B01F 1/00 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/304 341

FI (3)：

B01F 1/00 A ,  B08B 3/10 Z ,  H01L 21/304 341 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• オゾン水製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-031866   Applicant：株式会社荏原製作所
• 特開昭54-094476