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J-GLOBAL ID：200903096787585178

ヘテロ環化合物及びそれを用いた発光素子

Inventor：
木村 桂三

About 木村 桂三


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002140590
Publication number (International publication number)：2003335754
Application date： May. 15, 2002
Publication date： Nov. 28, 2003
Summary：
【要約】【課題】 各種電子デバイス、特に発光素子用材料として有用な化合物、及び発光特性、保存耐久性等に優れる発光素子を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表されることを特徴とする化合物、及びそれを用いた発光素子である。式(I)中、R111、R112、R113、R114、R121、R122、R123、R124、R131、R132、R133及びR134は、それぞれハロゲン原子、アルキル基等を表す。R115、R116、R117、R118、R125、R126、R127、R128、R135、R136、R137及びR138は、それぞれ水素原子等を表す。n11は0又は1を表す。L11は、アリーレン基等を表す。R111〜R118、R121〜R128及びR131〜R138は互いに連結して環を形成してもよい。但し、n11が1を表し、更にR116、R126及びR136が1級アルキル基以外のアルキル基を表し、更にR117、R127及びR137がアルキル基を表すことはない。【化1】
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で表される化合物。【化1】(一般式(I)中、R111、R112、R113、R114、R121、R122、R123、R124、R131、R132、R133及びR134は、それぞれハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。R115、R116、R117、R118、R125、R126、R127、R128、R135、R136、R137及びR138は、それぞれ水素原子又は置換基を表す。n11は0又は1を表す。L11は、アリーレン基、アリーレンとアルキレンの組み合わせからなる基又はアリールトリイル基を表す。R111〜R118、R121〜R128及びR131〜R138は互いに連結して環を形成してもよい。但し、n11が1を表し、更にR116、R126及びR136が1級アルキル基以外のアルキル基を表し、更にR117、R127及びR137がアルキル基を表すことはない。)
IPC (8)：
C07D209/86 ,  C07D403/14 ,  C09K 11/06 640 ,  C09K 11/06 645 ,  C09K 11/06 650 ,  C09K 11/06 690 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (8)：
C07D209/86 ,  C07D403/14 ,  C09K 11/06 640 ,  C09K 11/06 645 ,  C09K 11/06 650 ,  C09K 11/06 690 ,  H05B 33/14 B ,  H05B 33/22 D
F-Term (19)：
3K007AB02 ,  3K007AB03 ,  3K007AB04 ,  3K007AB11 ,  3K007AB14 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4C063AA05 ,  4C063CC43 ,  4C063DD08 ,  4C063EE10 ,  4C204BB05 ,  4C204BB09 ,  4C204CB25 ,  4C204DB01 ,  4C204EB01 ,  4C204FB08 ,  4C204GB03 ,  4C204GB11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 有機電界発光素子
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-199562   Applicant：三菱化学株式会社
  • 有機電界発光素子
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-220343   Applicant：三菱化学株式会社
  • 発光素子及びアゾール化合物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-197135   Applicant：富士写真フイルム株式会社
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)
  • Photoetching of copper surface with photosensitive polymeric coatings

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