半導体装置及びその作製方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002058532
Publication number (International publication number)：2002343811
Application date： Mar. 05, 2002
Publication date： Nov. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】生産性の向上及び歩留まりの向上が可能なアクティブマトリックス方式の液晶表示装置を提供する。【解決手段】本発明は、同じエッチングガスを用いて、金属材料からなる導電膜、一導電型を付与する不純物元素を含む第2の非晶質半導体膜、非晶質半導体膜からなる積層膜を選択的にエッチングして第1の非晶質半導体膜1001の端部をテーパー形状にすることで、画素電極1003のカバレッジの問題を解決し、さらに3枚のフォトマスクで逆スタガ型のTFTを完成することが可能となる。

Claim (excerpt)：

絶縁表面上にゲート配線と、前記ゲート配線上に絶縁膜と、前記絶縁膜上に第1の非晶質半導体膜と、前記第1の非晶質半導体膜上に一導電型の不純物元素を含有する第2の非晶質半導体膜からなるソース領域及びドレイン領域と、前記ソース領域または前記ドレイン領域上にソース配線または電極と、前記電極と一部接して重なる画素電極とを有し、前記第1の非晶質半導体膜の端部はテーパー形状であることを特徴とする半導体装置。

IPC (4)：

H01L 21/336 , G02F 1/1368 , H01L 21/3065 , H01L 29/786

FI (6)：

G02F 1/1368 , H01L 29/78 627 C , H01L 29/78 618 C , H01L 29/78 616 T , H01L 29/78 616 L , H01L 21/302 A

F-Term (67)：

2H092JA24 , 2H092JA28 , 2H092JA34 , 2H092JA37 , 2H092JA41 , 2H092JB01 , 2H092MA13 , 2H092NA27 , 2H092NA29 , 2H092PA01 , 5F004DA04 , 5F004DA11 , 5F004DA29 , 5F004DB01 , 5F004EA40 , 5F110AA16 , 5F110AA26 , 5F110BB01 , 5F110CC07 , 5F110CC08 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110DD03 , 5F110EE01 , 5F110EE02 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE05 , 5F110EE06 , 5F110EE14 , 5F110FF01 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110FF04 , 5F110GG01 , 5F110GG02 , 5F110GG14 , 5F110GG15 , 5F110GG22 , 5F110GG25 , 5F110GG43 , 5F110GG45 , 5F110HJ01 , 5F110HJ04 , 5F110HJ12 , 5F110HJ13 , 5F110HK01 , 5F110HK02 , 5F110HK03 , 5F110HK04 , 5F110HK06 , 5F110HK07 , 5F110HK09 , 5F110HK15 , 5F110HK16 , 5F110HK22 , 5F110HK32 , 5F110HK33 , 5F110HK35 , 5F110HM03 , 5F110HM15 , 5F110NN02 , 5F110NN22 , 5F110NN23 , 5F110NN72 , 5F110NN73 , 5F110QQ04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

アクティブマトリクス表示装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-222193 Applicant：株式会社東芝
液晶表示装置とその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-172105 Applicant：株式会社日立製作所

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