液晶表示素子用偏光膜の製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998228943
Publication number (International publication number)：1999153712
Application date： Aug. 13, 1998
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、色を表わす領域である可視光線領域をすべてカバーできる広い選択反射波長帯域(偏光領域)を有するだけでなく、光を透過する効率である偏光率に優れた液晶表示素子用偏光膜を製造する方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の液晶表示素子用偏光膜の製造方法は、基板上に感光性高分子素材である液晶配向物質を薄膜塗布し、ここに偏光された光を照射して光配向処理された配向膜を形成する工程と、少なくとも2種類の液晶単量体と、光重合開始剤とを混合して液晶混合物を調製する工程と、得られた配向膜の上に調製した液晶混合物を塗布し、液晶混合物中の液晶分子の光軸が膜面に垂直になるように配向させる工程及び光重合開始剤が添加された液晶混合物に光を照射して、光重合反応させる工程とからなることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

(1)基板上に感光性高分子素材である液晶配向物質を薄膜塗布し、偏光された光を照射して光配向処理された配向膜を形成する工程と、(2)少なくとも2種類の液晶単量体と、光重合開始剤とを混合して液晶混合物を調製する工程と、(3)(1)の工程で得られた配向膜の上に、(2)の工程で調製した液晶混合物を塗布し、液晶混合物中の液晶分子の光軸が膜面に垂直になるように配向させる工程及び、(4)光重合開始剤が添加された液晶混合物に光を照射して、光重合反応させる工程とからなることを特徴とする液晶表示素子用偏光膜の製造方法。

IPC (4)：

G02B 5/30 , C09D179/08 , G02F 1/1335 510 , G02F 1/1337 520

FI (4)：

G02B 5/30 , C09D179/08 Z , G02F 1/1335 510 , G02F 1/1337 520

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光学異方性を有する基板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-215874 Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
特開平1-133003
超広帯域偏光反射材料
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-517541 Applicant：レヴェオ・インコーポレーテッド

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