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J-GLOBAL ID：200903097022378812

光学異方性を有する基板の製造方法

Inventor：
長谷部 浩史

About 長谷部 浩史

, 
高津 晴義

About 高津 晴義


Applicant, Patent owner：
大日本インキ化学工業株式会社

About 大日本インキ化学工業株式会社


Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994215874
Publication number (International publication number)：1996075924
Application date： Sep. 09, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：
【要約】【構成】 (1)第1の透明性基板及び第2の基板上に配向処理を施す第1工程、(2)前記2枚の基板を、配向処理を施した面を対向させて配置した後、これらの基板間に重合性液晶組成物を介在させる第2工程、(3)光を照射することによって前記重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成する第3工程、(4)一方の基板を剥離する第4工程、及び(5)第3の透明性基板上に前記光学異方体を転写する第5工程を有することを特徴とする光学異方性を有する基板の製造方法。【効果】 この製造方法により、透明性基板に対する要求を緩和でき、製造コストの低減を図れる。また、液晶セルのガラス基板の上に直接光学異方体を簡便に転写することができるため、各種液晶ディスプレイの高性能化、軽量化、薄型化および低コスト化に極めて有用である。
Claim (excerpt)：
(1)第1の透明性基板及び第2の基板上に配向処理を施す第1工程、(2)前記2枚の基板を、配向処理を施した面を対向させて配置した後、これらの基板間に重合性液晶組成物を介在させる第2工程、(3)光を照射することによって前記重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成する第3工程、(4)一方の基板を剥離する第4工程、及び(5)第3の透明性基板上に前記光学異方体を転写する第5工程を有することを特徴とする光学異方性を有する基板の製造方法。
IPC (5)：
G02B 5/30 ,  C09K 19/38 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/1335 510 ,  G02F 1/137 500
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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