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J-GLOBAL ID:200903096999687183
真空容器内壁表面の改質方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002301077
Publication number (International publication number):2004137522
Application date: Oct. 15, 2002
Publication date: May. 13, 2004
Summary:
【課題】安定した超高真空圧力雰囲気を可能とする真空容器を実現する。【解決手段】銅と窒化ホウ素の混合体をターゲットとし、真空容器の内壁表面に銅と窒化ホウ素を同時にスパッタ蒸着して銅と窒化ホウ素の混合膜を真空容器内壁表面に形成させる。【選択図】 図4
Claim (excerpt):
銅と窒化ホウ素の混合体をターゲットとし、真空容器の内壁表面に銅と窒化ホウ素を同時にスパッタ蒸着して銅と窒化ホウ素の混合膜を真空容器内壁表面に形成させることを特徴とする真空容器内壁表面の改質方法。
IPC (2):
FI (2):
C23C14/06 L
, C23C14/00 B
F-Term (5):
4K029AA26
, 4K029BA64
, 4K029CA05
, 4K029DA09
, 4K029DC15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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表面が改質された真空材料とその表面改質方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-350333
Applicant:科学技術庁金属材料技術研究所長
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特開平2-233133
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特開昭63-199861
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スパッタリングターゲットおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-119546
Applicant:日立金属株式会社
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特許第2905589号
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