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J-GLOBAL ID：200903097042231079

廃水の処理方法

Inventor： 塩田 祐介 ,  石井 徹 ,  三井 紀一郎 ,  佐野 邦夫 ,  高島 武博
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Agent (1)： 植木 久一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993169058
Publication number (International publication number)：1995024482
Application date： Jul. 08, 1993
Publication date： Jan. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 無機物質及び有機物質の両方を含む廃水を、効率よく、高度に浄化する方法を提供する。【構成】 廃水を高圧下の湿式酸化反応塔1で処理する。次に解圧後固液分離処理装置15で固液分離する。固形分除去液を高圧下の触媒湿式酸化反応塔31で処理する。

Claim (excerpt)：

金属もしくは金属化合物、及び有機物質を含有する廃水(但し写真処理廃液を除く)を処理する方法において、主として前記廃水を高圧下で処理して前記金属もしくは金属化合物を不溶化または難溶化する第1酸化工程、該第1酸化工程から排出される固形物含有液を解圧後導入して固液分離を行う固液分離工程、該固液分離工程からの固形分除去液を導入して高圧下で触媒の存在下に、主として有機物質を酸化もしくは酸化分解する第2酸化工程を含むことを特徴とする廃水の処理方法。

IPC (7)：

C02F 1/74 101 ,  C02F 1/74 ZAB ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/62 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 写真廃液の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-204638   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特表平1-502650
  
• 特開平3-026400
  
• 特表平3-500264
  
• 廃水の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-180004   Applicant：株式会社日本触媒