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J-GLOBAL ID：200903097224056760

基板処理装置

Inventor： 岡 聡 ,  青木 賢哉
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 佐々木 聖孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999301973
Publication number (International publication number)：2001127033
Application date： Oct. 25, 1999
Publication date： May. 11, 2001
Summary：

【要約】【課題】 処理中または処理の前後で被処理基板を回転させる際に基板ないし基板周囲の各部から発生したミストまたは異物が基板に付着するのを効果的に防止または抑制すること。【解決手段】 この処理装置62は、基本的には、処理容器として機能するカップ64と、このカップ64の内側に設けられたスピンチャック機構66と、カップ64に出入り可能に設けられた洗浄機構(図示せず)とで構成されている。カップ64の上部側璧部84の内壁面には、それぞれ周回方向に延在する斜め下向きのテーパ部90と断面L形の内部案内板92とが設けられる。カップ上部側璧部84の側璧において、テーパ部90の背後の部位には、内部案内板92で受けられた気流および/またはミストをカップ64の外へ出すための通孔94が形成されている。カップ64の上部側璧部84の外璧には、カップの外に出たミスト等をケーシング60の底部へ送るための断面L形の第1および第2の外部案内板98,100が設けられている。

Claim (excerpt)：

処理容器内で被処理基板を載せて保持する保持手段を有し、前記基板を前記保持手段と一緒にほぼ水平に回転させる回転手段と、前記保持手段側から前記処理容器の内壁に当たる気流の風圧を強めるための前記保持手段の裏側に設けられた送風手段とを具備する基板処理装置。

IPC (6)：

H01L 21/306 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (7)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/306 J ,  H01L 21/30 563 ,  H01L 21/30 564 C

F-Term (29)：

2H096AA25 ,  2H096GA29 ,  2H096HA23 ,  2H096LA06 ,  4F042AA03 ,  4F042AA07 ,  4F042DF03 ,  4F042DF07 ,  4F042DF32 ,  4F042EB05 ,  4F042EB09 ,  4F042EB13 ,  4F042EB17 ,  4F042EB24 ,  5F043CC12 ,  5F043CC14 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE37 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046HA03 ,  5F046JA05 ,  5F046JA06 ,  5F046JA08 ,  5F046JA10 ,  5F046LA05 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭56-160035
  
• 特開平1-039023
  
• 回転塗布装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-090471   Applicant：新日本製鐵株式会社