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J-GLOBAL ID：200903097378416590

気体の清浄方法及び装置

Inventor：
藤井 敏昭

About 藤井 敏昭


Applicant, Patent owner：
株式会社荏原総合研究所

About 株式会社荏原総合研究所


Agent (1)： 吉嶺 桂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994257300
Publication number (International publication number)：1996089746
Application date： Sep. 28, 1994
Publication date： Apr. 09, 1996
Summary：
【要約】【目的】 接触角の増加防止に効果がある超清浄な密閉空間を得る空気の清浄方法及び装置を提供する。【構成】 基材又は基板表面の接触角の増加を防止する気体の清浄装置において、密閉空間内に、気体中の有害成分10を除去するための、活性炭、珪藻土、シリカゲル2、合成ゼオライト、高分子化合物、ガラス材又はフッ素樹脂から選ばれた少なくとも1種類の吸着材を用いた有害ガス除去部Aと、該気体中の微粒子11を除去するための、紫外線源4及び/又は放射線源と該線源からの照射により光電子を放出する光電子放出材5と電場用電極6及び荷電微粒子捕集材7を有する微粒子除去部Bと、該密閉空間内に気体循環流を発生させる発熱源12とを備えたものである。
Claim (excerpt)：
基材又は基板表面の接触角の増加を防止する気体の清浄方法において、密閉空間内で有害成分及び微粒子を含む気体を、接触角を増加する気体中の有害成分を除去する工程及び光電子により気体中の微粒子を除去する工程に、該密閉空間内に設けられた発熱源に基づく気体流によって通すことを特徴とする気体の清浄方法。
IPC (2)：
B01D 53/32 ,  B01D 53/02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 気体の清浄方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-203170   Applicant：荏原インフィルコ株式会社, 株式会社荏原総合研究所
  • 気体の清浄方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-216859   Applicant：荏原インフィルコ株式会社, 株式会社荏原総合研究所
  • 特開平4-148139
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