Pat

J-GLOBAL ID：200903097405251727

超純水の製造方法及び装置

Inventor： 古川 征弘 ,  佐藤 伸
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995190359
Publication number (International publication number)：1997038669
Application date： Jul. 26, 1995
Publication date： Feb. 10, 1997
Summary：

【要約】【課題】 効率的なTOC分解を行って、極めて高純度な超純水を製造する。【解決手段】 pH3.5〜5の水にO3 注入及びUV照射を行ってTOCを分解する。【効果】 pH3.5〜5の酸性領域でO3 注入及びUV照射を行うことにより、TOCを効率的に分解して極低濃度にまで低減することができる。

Claim (excerpt)：

水にオゾン注入及び紫外線照射を行ってTOCを分解する工程を有する超純水の製造方法において、オゾンを注入する水のpHを3.5〜5に調整することを特徴とする超純水の製造方法。

IPC (5)：

C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/78

FI (5)：

C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/78

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 純水の製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-257291   Applicant：オルガノ株式会社, 三菱電機株式会社
• 特開平1-284385
  
• ごみ埋立地浸出汚水のCOD除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-262756   Applicant：荏原インフィルコ株式会社