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J-GLOBAL ID：200903097487851328

感放射線性組成物

Inventor： 新実 高明 ,  藤田 淳 ,  浦野 年由 ,  檜野 悦子 ,  横尾 敏明
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998134535
Publication number (International publication number)：1999265060
Application date： Apr. 28, 1998
Publication date： Sep. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】 感度、解像力及び耐熱性の良好な感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 塗膜形成性樹脂、下記一般式(1)または(2)で表されるビススルホニルジアゾメタン化合物及び溶媒を含有することを特徴とする感放射線性組成物。【化1】(式中、R1 及びR3 は置換されていても良い直鎖状、分岐状又は環状アルキル基を、R2 はハロゲン原子、置換されても良いアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ニトリル基又はアミド基を、R4 、R5 、R6 はそれぞれ独立に置換されていても良い直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、ハロゲン原子、置換されていても良いアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ニトリル基又はアミド基を表す。)

Claim (excerpt)：

塗膜形成性樹脂、下記一般式(1)または(2)で表されるビススルホニルジアゾメタン化合物を含有することを特徴とする感放射線性組成物。【化1】(式中、R1 及びR3 は置換されていても良い直鎖状、分岐状又は環状アルキル基を、R2 はハロゲン原子、置換されても良いアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ニトリル基又はアミド基を、R4 、R5 、R6 はそれぞれ独立に置換されていても良い直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、ハロゲン原子、置換されていても良いアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ニトリル基又はアミド基を表す。)

IPC (2)：

G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-049097   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 微細パターン形成材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-246324   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 特開平3-103854