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J-GLOBAL ID：200903097581661303

磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor： 二井 英昭 ,  細野 和真 ,  岡田 光正 ,  大塚 善徳
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999217229
Publication number (International publication number)：2001043510
Application date： Jul. 30, 1999
Publication date： Feb. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 上部磁極のポールをトリミングしてコア幅を狭くするに要する時間を短縮することを課題とする。【解決手段】 基板のイオンビームに対する向きを変えながら、基板を静止した状態で、上部磁極のポール16aと下部磁極8とをイオンミリング法により部分的にトリミングする。

Claim (excerpt)：

磁気ヘッドの製造方法に於いて、基板上に記録下部磁極と記録上部磁極を形成する工程と、前記基板が静止した状態で、浮上面近傍における前記記録上部磁極および前記記録下部磁極をイオンミリング法により部分的にトリミングする工程と、を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。

F-Term (3)：

5D033BA13 ,  5D033CA02 ,  5D033DA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-232109
  
• MR複合ヘッド及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-325467   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 特開平3-232109