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J-GLOBAL ID:200903097624757741
レーザマーキング装置及びレーザマーキング方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
開口 宗昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000017556
Publication number (International publication number):2001205462
Application date: Jan. 26, 2000
Publication date: Jul. 31, 2001
Summary:
【要約】【課題】マーキングパターンに対応したマスクを多数有することなく、かつ寿命が長く、ハイパワーのレーザ光にも対応し得る反射手段を備えたレーザマーキング装置を提供する。【解決手段】レーザマーキング装置の構成は、レーザ出力手段であるレーザ発信器2と、照射されたレーザ光を反射する反射板4と、このレーザ発信器2と反射板4との間に配されたエキスパンダ3とから構成されてなる。レーザ発信器2から照射されたレーザ光は、エキスパンダ3を通過することによってビーム径が拡張され、反射板4へは平行光となって到達する。なお、反射板4を構成する個々の可動式ミラー4aはパーソナルコンピュータによって得られたドットイメージに対応するように制御される。
Claim (excerpt):
レーザ出力手段から出射されたレーザ光を反射する反射手段と、反射されたレーザ光を集光する結像レンズと、反射されたレーザ光を吸収する遮蔽板とを有するレーザマーキング装置において、前記反射手段が少なくとも2方向にレーザ光を反射し、少なくとも一方向の反射レーザ光が前記結像レンズに照射され、他の少なくとも一方向の反射レーザ光が前記遮蔽板に照射されてなることを特徴とするレーザマーキング装置。
IPC (4):
B23K 26/00
, B23K 26/06
, G02B 7/198
, G02B 26/08
FI (5):
B23K 26/00 B
, B23K 26/06 E
, B23K 26/06 Z
, G02B 26/08 E
, G02B 7/18 B
F-Term (12):
2H041AA16
, 2H041AB14
, 2H041AZ02
, 2H041AZ05
, 2H043BB05
, 4E068AB01
, 4E068CA07
, 4E068CB02
, 4E068CB09
, 4E068CD05
, 4E068CD12
, 4E068CF04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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レーザマーク装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-032656
Applicant:株式会社キーエンス
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配線基板のレ-ザ加工装置と方法および配線基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-057175
Applicant:株式会社日立製作所
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