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J-GLOBAL ID：200903097638197196

縦型同軸プラズマ処理装置

Inventor： 松下 淳 ,  湊 光朗 ,  堀 尚志
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 小山 有 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995271226
Publication number (International publication number)：1997115693
Application date： Oct. 19, 1995
Publication date： May. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】 同軸型プラズマ処理装置内の雰囲気ガスの排出に時間がかかっている。【解決手段】 上下開口を閉塞した筒状チャンバー3の内外に内部電極7及び外部電極5を配置した縦型同軸プラズマ処理装置において、筒状チャンバー3はこれを囲むケース11を有し、上部には排気管12を導出し、排気管12にはケース11の外側位置に開閉バルブ13を設けている。

Claim (excerpt)：

上下開口を閉塞した筒状チャンバー3の内外に内部電極7及び外部電極5を配置した縦型同軸プラズマ処理装置において、筒状チャンバー3はこれを囲むケース11を有し、上部には排気管12を導出し、排気管12にはケース11の外側位置に開閉バルブ13を設けたことを特徴とする縦型同軸プラズマ処理装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/31

FI (6)：

H05H 1/46 A ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-215429
  
• 半導体処理装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-131711   Applicant：富士通株式会社