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J-GLOBAL ID：200903097638673567

アルカリ現像用レジスト

Inventor： 後河内 透 ,  浅川 鋼児 ,  河野 直美 ,  中瀬 真
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 外川 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996056610
Publication number (International publication number)：1997244235
Application date： Mar. 14, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】 短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好なレジストパターンを形成することができるアルカリ現像用レジストの提供。【解決手段】 下記一般式(1)で表される4〜6員環を分子中に有する酸性化合物、並びにこの酸性化合物のエーテル及び塩から選択された少なくとも1種の化合物を含有する。【化1】(式中、R1 ,R2 はそれぞれ水素原子、ヒドロキシル基または1価の有機基、R3 は2価の有機基を示すが、R1 及びR2 のうち少なくとも一方はヒドロキシル基である。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される4〜6員環を分子中に有する酸性化合物、並びにこの酸性化合物のエーテル及び塩から選択された少なくとも1種の化合物を含有するアルカリ現像用レジスト。【化1】(式中、R1 ,R2 はそれぞれ水素原子、ヒドロキシル基または1価の有機基、R3 は2価の有機基を示すが、R1 及びR2 のうち少なくとも一方はヒドロキシル基である。)

IPC (6)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 画像形成性媒体及び画像形成法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平6-511230   Applicant：ポラロイドコーポレーシヨン
• 光重合開始系増感色素
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-115142   Applicant：株式会社日本感光色素研究所
• 特開昭61-145143
  
• 特開昭63-195650