表面パターンの検査方法及び検査装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997220488
Publication number (International publication number)：1999063944
Application date： Aug. 15, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】照射光の0次回折光および下地パターンからの戻り光の影響を受けることなく散乱光のみを抽出することを可能とする。【解決手段】表面が検査波長に対して透光性を有する絶縁膜1aと透光性を有しない微細パターン1bから構成されており、この表面が平坦化された被検体1の表面に斜め方向から照明光3を入射角θc で入射する手段と、被検体1の表面の光学像を対物レンズ5で拡大して観測する手段と、絶縁膜1aの屈折率n2 より大きい屈折率n3 を有し、対物レンズ5と被検体1表面の間に充填された媒質11とを具備してなり、斜入射角θc は、媒質11側から被検体1表面との界面に向かってsinθc ≧n2 /n3 を満足するように設定し、対物レンズ5の開口数NAは、n3 ・sinθc >NAを満足するように設定する。

Claim (excerpt)：

表面が検査波長に対して透光性を有する物質と透光性を有しない物質から構成されており、該表面が平坦化された被検体の表面に照明光を斜め方向から入射させ、該被検体の表面の光学像を対物レンズで拡大して観測することにより被検体の表面の異常を検査する表面パターンの検査方法において、前記対物レンズと被検体表面の間に、前記透光性を有する物質の屈折率n2 より大きい屈折率n3 を有する媒質を充填し、該媒質側から被検体表面との界面に向かってsinθc ≧n2 /n3 を満足する斜入射角θc で照明光を入射させ、かつ前記対物レンズとしてn3 ・sinθc >NAを満足するNAを有するものを用いることを特徴とする表面パターンの検査方法。

IPC (4)：

G01B 11/24 , G01B 11/30 , G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (5)：

G01B 11/24 C , G01B 11/30 C , G01N 21/88 E , H01L 21/66 P , H01L 21/66 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-025671 Applicant：キヤノン株式会社

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