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J-GLOBAL ID:200903097672797410

高級α-オレフィン共重合体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 大谷 保 ,  東平 正道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003307164
Publication number (International publication number):2005075908
Application date: Aug. 29, 2003
Publication date: Mar. 24, 2005
Summary:
【課題】 熱可塑性樹脂、潤滑油や燃料油やワックスとの相溶性、無機充填剤との混合性、二次加工性に優れ、融解・結晶化の温度域が狭い結晶性高級α-オレフィン共重合体及びその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 炭素数10以上の高級α-オレフィン二種以上を、又は炭素数10以上の高級α-オレフィン一種以上と他のオレフィン一種以上とを共重合して得られ、以下の(1)〜(3)を満足することを特徴とする結晶性高級α-オレフィン共重合体である。(1):高級α-オレフィン単位含有量が50モル%以上、(2):示差走査型熱量計(DSC)を用い、該共重合体を窒素雰囲気下190°Cで5分間保持した後、-10°Cまで5°C/分で降温させ、-10°Cで5分間保持後、190°Cまで10°C/分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測される融点(Tm)が20〜100°Cの範囲にあり、(3):広角X線散乱強度分布における、15deg<2θ<30degに観測される側鎖結晶化に由来する、単一のピークX1が観測される。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
炭素数10以上の高級α-オレフィン二種以上を、又は炭素数10以上の高級α-オレフィン一種以上と他のオレフィン一種以上とを共重合して得られ、以下の(1)〜(3)の要件を満足することを特徴とする結晶性高級α-オレフィン共重合体。 (1):高級α-オレフィン単位含有量が50モル%以上、 (2):示差走査型熱量計(DSC)を用い、該共重合体を窒素雰囲気下190°Cで5分間保持した後、-10°Cまで5°C/分で降温させ、-10°Cで5分間保持後、190°Cまで10°C/分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測される融点(Tm)が20〜100°Cの範囲にあり、 (3):広角X線散乱強度分布における、15deg<2θ<30degに観測される側鎖結晶化に由来する、単一のピークX1が観測される。
IPC (2):
C08F210/14 ,  C08F4/645
FI (2):
C08F210/14 ,  C08F4/645
F-Term (59):
4J100AA01Q ,  4J100AA02Q ,  4J100AA03Q ,  4J100AA07Q ,  4J100AA15P ,  4J100AA15Q ,  4J100AA16Q ,  4J100AA17Q ,  4J100AA19Q ,  4J100AA21P ,  4J100AA21Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA10 ,  4J100DA01 ,  4J100DA24 ,  4J128AA01 ,  4J128AB00 ,  4J128AB01 ,  4J128AC01 ,  4J128AC10 ,  4J128AC28 ,  4J128AD06 ,  4J128AD07 ,  4J128AD08 ,  4J128AD11 ,  4J128AD16 ,  4J128AE06 ,  4J128AE15 ,  4J128BA00A ,  4J128BA01B ,  4J128BB00A ,  4J128BB01B ,  4J128BC12B ,  4J128BC15B ,  4J128BC18B ,  4J128BC25B ,  4J128BC27B ,  4J128DA01 ,  4J128DA02 ,  4J128DA03 ,  4J128DA04 ,  4J128DA05 ,  4J128EA01 ,  4J128EB02 ,  4J128EB03 ,  4J128EB04 ,  4J128EB07 ,  4J128EB08 ,  4J128EB09 ,  4J128EB10 ,  4J128EC02 ,  4J128FA01 ,  4J128FA02 ,  4J128FA03 ,  4J128FA04 ,  4J128GA01 ,  4J128GA12 ,  4J128GA14 ,  4J128GA19
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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