ナノ構造体、多孔質ナノ構造体および機能性ナノ構造体、並びにそれらの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：飯田敏三 , 佐々木渉 , 宮前尚祐
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005160022
Publication number (International publication number)：2006334693
Application date： May. 31, 2005
Publication date： Dec. 14, 2006
Summary：

【課題】低コストで大面積の規則的なナノパターンを形成しうるナノ構造体、多孔質ナノ構造体および機能性ナノ構造体、並びにそれらの製造方法を提供する。【解決手段】ソフトリソグラフィ法を用いて基板(3)上に形成されたナノ構造体(1)であって、二種のポリマー成分からなり規則的な相分離構造を有するブロック共重合体から構成される少なくとも1つのサブ構造部(2)を含むナノ構造体(1)。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ソフトリソグラフィ法を用いて基板上に形成されたナノ構造体であって、二種のポリマー成分からなり規則的な相分離構造を有するブロック共重合体から構成される少なくとも1つのサブ構造部を有してなるナノ構造体。

IPC (3)：

B82B 1/00 , B82B 3/00 , C08L 101/00

FI (3)：

B82B1/00 , B82B3/00 , C08L101/00

F-Term (2)：

4J002BP011 , 4J002BP031

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

パターン形成材料、多孔質構造体の製造方法、パターン形成方法、電気化学セル、中空糸フィルター、多孔質カーボン構造体の製造方法、キャパシタの製造方法、および燃料電池の触媒層の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-169263 Applicant：株式会社東芝
垂直配向ラメラ構造を有するブロック共重合体膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-294169 Applicant：関西ティー・エル・オー株式会社

Cited by examiner (3)

垂直配向ラメラ構造を有するブロック共重合体膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-294169 Applicant：関西ティー・エル・オー株式会社
ポリマーのミクロ相分離構造体とその形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-140196 Applicant：科学技術振興事業団, 舩木克典
特開昭61-146301

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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