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J-GLOBAL ID：200903097769373798

真空装置用部品及びその製造方法並びにそれを用いた装置

Inventor： 高橋 小弥太 ,  松永 修 ,  岡本 美智雄
Applicant, Patent owner： 東ソー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004301858
Publication number (International publication number)：2005154896
Application date： Oct. 15, 2004
Publication date： Jun. 16, 2005
Summary：

【課題】半導体等のプラズマ処理装置や成膜装置に用いられる真空装置用の部品では、その使用中に部品自体の剥離、部品表面に付着する膜状物質の剥離、及びプラズマによる部品表面の腐食による製品の汚染、部品の短寿命化及び頻繁な部品交換による生産性の低下という問題があった。【解決手段】半導体等の成膜装置及びプラズマ処理装置に用いる真空装置用部品において、表面がセラミック及び又は金属溶射膜で被覆され、該溶射膜の表面に幅10〜300μm、高さ4〜600μm、幅(W)と高さ(H)の比(H/W)が0.4以上の突起状粒子が、20個/mm2〜20000個/mm2以下の範囲で存在し、空孔率が10〜40%となるものは、膜状物質の付着性が高く、膜状物質の剥離に起因する発塵による製品汚染がなく、なおかつ長時間の連続使用が可能である。【選択図】 選択図なし

Claim (excerpt)：

基材上に、セラミック溶射膜を形成した真空装置用部品であって、該溶射膜の表面に直径0.1〜5μmの粒子が集合した突起状粒子が、分散して存在することを特徴とする真空装置用部品。

IPC (4)：

C23C4/04 ,  C23C4/08 ,  C23C4/10 ,  H01L21/3065

FI (4)：

C23C4/04 ,  C23C4/08 ,  C23C4/10 ,  H01L21/302 101G

F-Term (14)：

4K031AA01 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB07 ,  4K031CB18 ,  4K031CB39 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA01 ,  4K031DA03 ,  4K031DA04 ,  5F004AA14 ,  5F004BB29 ,  5F004BD04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 米国特許第5460689号明細書(第3欄)
  
• 特許公開平8-104541号公報(特許請求の範囲)
  
• 特許公開2003-212598号公報(実施例6)
  

Cited by examiner (1)

• 表面に大きな凹凸を有する石英ガラス治具およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-342157   Applicant：信越石英株式会社